NK2000/04中试型胶体磨

实验室胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过实验室胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

NK2000/04中试型胶体磨

我们的磨头的结构：沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下，而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大，这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。
NK2000/4实验室胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。NK2000/4实验室胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。NK2000/4实验室胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

在一般的情况下，我们的机械密封可以zui大承受16bar压力，根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar,这就决定我们的入口zui大压力可以达到12-13bar.

同时机械密封的使用寿命和以下因素有关：

满足以下条件使得机械密封的使用寿命更长:

-可允许的压力比率

-充份的冷却和湿度

-材料的合适搭配.

机械密封本身会产生磨损和破裂.磨损得主要原因是:

-压力差

-温度

-分散物料的腐蚀性

-密封的材料

转速:

7890/13789RPM可以通过变频调速通过皮带加速我们轴承可以承受140000RPM（转速是他们的3-4倍，研磨的力度也是他们的3-4倍，这样研磨的细度更小）。

CIK胶体磨结构：

三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区。虽然都是三级结构，但是他们的设计不同理念不同，形状及齿列的结构。

CIK胶体磨磨头的结构：

沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下，而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大，这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。
实验室胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

公司另外一项*的创新，就是锥体磨NKO2000系列，它的设计使其功能在原有的NK2000的基础上又进了一步。由于这项创新，NKO2000能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比胶体磨NK2000还小。研磨间隙可以无级调节，从而可以得到精确的研磨参数。研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后的粒径大小都比胶体磨NK的效果更加理想。

NK2000/4（LP系列）为实验室胶体磨的技术参数：功率1.5-2.2KW,转速0-14000rpm,线速度0-40m/s,电压380V,机器产量为0–700升/小时（水），重量35KG,尺寸（长宽高）（450X250X350）MM，LP使用轴封（PTFE环），在正常的情况下，一般轴封可以使用3000-4000次。LP不能24小时连续使用，一般zui多可以使用连续半个小时，这要依据料液的温度和转速而定。LP也可以通过变换模块，可以实现多功能多用途，是实验室中试生产的*选择。